国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清：这是北京高能同步辐射光源

最近，一则消息在多个视频网站广泛传播，称清华EUV项目把ASML的光刻机巨大化，完成了光刻技术产业化，并且表示这一项目早就在雄安新区规划落地式。

对于此事，中国电子工程设计院有限责任公司（以下简称中国电子院）9月18日发音，称该项目并不是网传的国产光刻机工厂，反而是北京市高能同步辐射光源项目（HEPS）。

北京市高能同步辐射光源项目位于北京市怀柔雁栖湖畔，是我国“十三五”重大科技基础设施建设，它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是全球色度最高第四代同步辐射光源之一。该项目早就在2019年就开始建设、将在2025年底交付使用。

北京市高能同步辐射光源项目实拍图片

HEPS是干什么用的呢？它的作用是根据网络加速器将离子束加速到6GeV，随后引入直径1360米储存环，用贴近光速的速度维持运行。离子束在储存环的不同部位根据弯转磁石或者各种插进件的时候就会顺着偏移路轨断线方向，释放出来平稳、高能量、亮度对比月亮的光，其实就是同步辐射光。

中国电子院解释说，HEPS可以看成是一个超精密、快速、拥有强大穿透力的超大X光机，它造成这个小光线可以穿透化学物质、深层次内进行立体式扫描仪，从分子结构、分子的尺度多层次地观察神秘的宇宙，HEPS是做好科学试验的大科学装置，并非网传的光刻技术工厂。

中国电子院称，该项目由中国勘察设计大师、国投集团首席科学家娄宇领队，中国电子院好几个技术性科研和设计方案团队协同协作，从项目可研报告项目立项到项目落地式攻克了多种技术和工艺困难。现阶段高能同步辐射光源配套设施已全面竣工。